得益于北京众星联恒科技有限公司在中国X射线、极紫外的专注,近10年的积累,对于极紫外光学技术及中国有较为深入的了解。而德国optiXfab公司于2012年开始商业化Fraunhofer研究所的Mo/Si多层膜专利技术,至今已经给客户生产了近2万片镜片,中大多数都是半导体工业的客户,如LLP光源的收集镜及Schwarzschild物镜等。经过双方充分的讨论及密切,我们共同决定将在半导体工业应用成熟的镀膜技术推广基于HHG,激光驱动等离子小型极紫外光源的科研应用,针对中国市场联合推出的1英寸的高性能13.5nm多层膜镜片,并在中国办公室备有库存,以实现镜片的快速交付。
EUV多层膜平面反射镜 AOI = 5 ° | EUV多层膜平面反射镜 AOI = 45 ° | EUV多层膜球面反射镜 AOI = 5 ° | |
反射率 | R>65% @13.5nm | R>67% @13.5nm | R>65% @13.5nm |
镀膜材料 | Mo/Si | Mo/Si | Mo/Si |
AOI | 5° | 45° | 5° |
Bandwidth (FWHM) | appr. 500 pm | appr. 950 pm | appr. 500 pm |
基底 | fused silica | fused silica | fused silica |
尺寸 | 25.4 ±0.1 mm | 25.4 ±0.1 mm | 25.4 ±0.1 mm |
厚度 | 6.35 ±0.1 mm | 6.35 ±0.1 mm | 6.35 ±0.1 mm |
面形精度 | λ/20 @ 632.8 nm | λ/20 @ 632.8 nm | λ/20 @ 632.8 nm |
表面粗糙度 | σ< 0.2 nm rms | σ< 0.2 nm rms | σ< 0.2 nm rms |
曲率半径 | - | - | 500 mm (± 1 %) |
实测反射率
主要应用:
极紫外相干衍射成像
极紫外显微成像
极紫外光电子能谱
极紫外掩膜版检测