哈特曼波前传感器板
-用FEL、同步辐射波前检测的2维孔阵列-利用深度反应离子蚀刻技术蚀刻到硅上加工示例：2D硅孔(间距:25mm，孔:12.5mm) 2D硅孔(间距:30mm，孔:3mm)
- 产地：
- 型号：
- 品牌：
-用FEL、同步辐射波前检测的2维孔阵列
-利用深度反应离子蚀刻技术蚀刻到硅上
加工示例：
2D硅孔(间距:25mm，孔:12.5mm)
2D硅孔(间距:30mm，孔:3mm)
参数 | 典型值 | 加工极限 |
材料 | 10 µm Si薄膜 | Si, Au, W |
Aspect ratio | 10 | >30 |
Area | 薄膜: 4.5 mm x 4.5 mm | > 10 mm x 10 mm |
自由电子激光波前检测
同步辐射波前检测