EUV/SXR准直,聚焦镜
MFO是一款应用于软X射线和EUV波段的光学器件，有两组相互垂直的极薄反射镜组成，光子通过掠入射角进行反射。MFO一般由玻璃，硅或金属等薄片组装而成。可根据客户要求定制多种形状（如龙虾眼，Kirkptrick-Baez等）产品特点：光学面材料：Au,Ni,Mo,etc...宽视场（max±60°）薄片厚度：30μm-1mm孔径：3x3mm-300x300mm能量范围：50eV-10keV)平面，椭
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1:
产品特点：
光学面材料：Au,Ni,Mo,etc...
先进的复制技术
光谱范围：EUV(60-200eV)
SXR（200-2000eV）
j镜片形态：椭球镜，抛物面镜，也可根据需求定制其他非球面镜
典型表层粗糙度：Ra≈0.3-2nm
典型尺寸：直径（D）5-250mm;长度（L）10-100mm
2.MFO
MFO是一款应用于软X射线和EUV波段的光学器件，有两组相互垂直的极薄反射镜组成，光子通过掠入射角进行反射。MFO一般由玻璃，硅或金属等薄片组装而成。
可根据客户要求定制多种形状（如龙虾眼，Kirkptrick-Baez等）
产品特点：
光学面材料：Au,Ni,Mo,etc...
宽视场（max±60°）
薄片厚度：30μm-1mm
孔径：3x3mm-300x300mm
能量范围：50eV-10keV)
平面，椭圆，和一般非球面
玻璃、硅和金属
表层材料：Au, Ni, Mo, Pt, W...
1.基本参数：
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| Figure1: Geometry of an ellipsoidal mirror | Figure2: Geometry of a parabolic mirror |
| Type | L | D1 | D2 | Z1 | Zd | Divergence |
| [mm] | [mm] | [mm] | [mm] | [mm] | [mrad] | |
| RE_08 | 50 | 6 | 10.5 | 72 | 1000 | 12 |
| RE_09 | 100 | 56.6 | 70 | 45 | 300 | 450 |
| RE_10 | 100 | 78 | 113 | 2450 | 2660 | 90 |
| RO_001 | 68 | 11.6 | 14 | 145 | 270 | X |
Figure3: Parameters of standard mirrors
 |  |
Figure4: Ellipsoidal mirror, Ni active surface, L=100mm | Figure4: Ellipsoidal mirror, Au active surface, L=80mm |
2.MFO
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| 激光等离子体源， Xe和Kr EUV辐射的聚焦强度分布。 | MFO elliptical Kirkpatrick-Baez system. MFO椭圆K-B系统。 |
EUV、SXR准直，聚焦镜 datasheet 2020.7.16.pdf
论文列表
Hiroki Mashiko，Akira Suda和Katsumi Midorikawa．以1014W/cm2的强度将相干软X射线辐射聚集于测微计光点大小．光学快报，29，1927(2004)，http://dx.doi.org/10.1364/OL.29.001927
K. Ichiyanagi，T. Sato，S. Nozawa，K. H. Kim，J. H. Lee，J. Choi，A. Tomita，H. Ichikawa，S. Adachi，H. Ihee和S. Koshihara．利用多层光学的宽带宽X射线束的100？ps时间分辨溶液散射．同步加速器辐射杂志，16，391(2009)，http://dx.doi.org/10.1107/S0909049509005986
Kyung Hwan Kim，Jong Goo Kim，Shunsuke Nozawa，Tokushi Sato，Key Young Oang，Tae Wu Kim, Hosung Ki，Junbeom Jo，Sungjun Park，Changyong Song，Takahiro Sato，Kanade Ogawa，Tadashi Togashi，Kensuke Tono，Makina Yabashi Tetsuya Ishikawa，Joonghan Kim，Ryong Ryoo，Jeongho Kim，Hyotcherl Ihee和Shin-ichi Adachi．直接观察带飞秒X射线散射的溶液中的键形成．自然，518，385 (2015)，http://dx.doi.org/10.1038/nature14163
Kil-Byoung Chai和Paul M. Bellan．用于成像毫秒时间尺度磁重联的极紫外摄影机．科学仪器评论，84，123504(2013)，http://dx.doi.org/10.1063/1.4841915
Hiroki Mashiko，Tomohiko Yamaguchi， Katsuya Oguri，Akira Suda和Hideki Gotoh， 用光谱相位相干直接电场重建描绘内壳层．自然通信，5，5599(2014)， http://dx.doi.org/10.1038/ncomms6599
Hiroki Mashiko，Steve Gilbertson，Michael Chini，Ximao Feng，Chenxia Yun，He Wang， Sabih D. Khan，Shouyuan Chen和Zenghu Chang．支持小于一个原子时间单位的脉冲持续时间的极紫外超连续谱．光学快报，34，3337 (2009)，http://dx.doi.org/10.1364/OL.34.003337
Mizuho Fushitani，Akitaka Matsuda，Akiyoshi Hishikawa．利用42 eV和91 eV高次谐波的单级激光的孤立原子和分子的EUV和软X射线光电子能谱．电子光谱学及相关现象杂志，184，561（2012），http://dx.doi.org/10.1016/j.elspec.2011.10.002
出版物列表（包括合著论文）：
Satoshi Ichimaru，Masatoshi Hatayama，Tadayuki Ohchi和Satoshi Oku．用于EUV光刻的300个双层Mo/Si多层反射镜．SPIE会议录9658, 日本光掩模2015：光掩模和下一代光刻掩模技术 XXII，965814 (2015)，http://dx.doi.org/10.1117/12.2197314
Hisataka Takenaka，Satoshi Ichimaru，Koumei Nagai，Tadayuki Ohchi，Hisashi Ito和E. M. Gullikson．利用施瓦兹希尔德显微镜的µ-XPS用多层反射镜．表面与界面分析37，181(2005)，http://dx.doi.org/10.1002/sia.1959
Ichiro Yoshikawa，Tetsunori Murachi， Hisataka Takenaka和Satoshi Ichimaru．30.4纳米的多层涂层．科学仪器评论，76，066109(2005)， http://dx.doi.org/10.1063/1.1938867
M. Hatayama，H. Takenaka，E. M. Gullikson，A. Suda和K. Midorikawa．用于35至65电子伏光子能超连续光谱的宽带极紫外多层反射镜．应用光学，48，5464-5466 (2009)， http://dx.doi.org/10.1364/AO.48.005464