X射线分辨率测试卡
用于X射线分析的分辨率评估图的事实上的标准。
- 产地: 日本
- 型号: XRESO系列
- 品牌: NTT-AT
用于X射线分析的分辨率评估图的事实上的标准。
公司介绍:
NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在全球范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量独特的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上最大的帮助。
产品介绍:
用于X射线分析的分辨率评估图的事实上的标准
优点
恩梯梯尖端技术公司的X射线分辨率评估图被应用于X射线显微镜、X射线微光束分析和X射线成像等需要超高分辨率的X射线分析。此已成为事实上标准的X射线图被广泛应用于世界上许多地方。
恩梯梯尖端技术公司的X射线图的最大特点是高耐X射线辐射性、超清晰图案和低边缘粗糙度。本公司基于Ta吸收体图的SiC膜极其精确,能为用户的X射线分析系统评估提供清晰的图像。
您不尝试一下这事实上标准的性能吗?
特点:
有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。
有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。
项目 | 标准型 XRESO-100 | 高分辨率型 带较厚Ta 吸收体 XRESO-50HC | 新!! 超高分辨率 XRESO-20 | |
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基板 | 材料、尺寸 | Si 10平方毫米 | ||
厚度 | 1毫米 | 1毫米 | 0.625毫米 | |
膜 | 材料、 厚度 | Ru 20纳米 SiN 2微米 | Ru 20纳米 SiC 200纳米 SiN 50纳米 | Ru 20纳米 SiC 200纳米 SiN 50纳米 |
区域 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | |
对齐 | 基板中间 | 基板中间 | 基板中间 | |
图案 | 吸收体、 厚度 | Ta 1微米 | Ta 500纳米 | Ta 100纳米 |
最小图案 尺寸 | 100纳米 | 50纳米 | 20纳米 放射形图案 | |
图案区域 | 250微米×350微米 | 300平方微米 | 300平方微米 |
XRESO-20是具有20纳米最小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号最近被应用于超高分辨率X射线成像系统。
图的SEM图像 | 图案布局 |
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100纳米孔 | ①放射形图案 ③④孔图案 ⑤⑥⑦⑧L&S图案 |
50纳米孔 | |
20纳米图案 | 20纳米放射形图案 |
XRESO-20是具有20纳米最小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号最近被应用于超高分辨率X射线成像系统。
图案布局 |
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XRESO-50HC提供成本合理的50纳米高分辨率。其已被应用于X射线微光束辐射、X射线显微镜和X射线相干成像等各种用途。
图的SEM图像 | 图案布局 |
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放射形图案 相应于图案布局的点(1) | |
50纳米 L&S 相应于图案布局的点(2) | |
NTT-AT_X射线分辨率测试卡.datasheet.2020.8.7.pdf
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Shinji Ohsuka,Akira Ohba,Shinobu Onoda,Katsuhiro Nakamoto,Tomoyasu Nakano,Motosuke Miyoshi,Keita Soda和Takao Hamakubo.带Wolter I型反射镜光学和电子碰撞水窗X射线源的实验室尺寸三维X射线显微镜.科学仪器评论,85,093701(2014),http://dx.doi.org/10.1063/1.4894468
A. Schropp,P. Boye,J. M. Feldkamp,R. Hoppe, J. Patommel,D. Samberg,S. Stephan,K. Giewekemeyer,R. N. Wilke,T. Salditt,J. Gulden,A. P. Mancuso,I. A. Vartanyants,E. Weckert,S. Schöder,M. Burghammer和C. G. Schroer.相干衍射显微术揭示的硬X射线纳米光束特性.应用物理快报,96,091102(2010),http://dx.doi.org/10.1063/1.3332591
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K. Giewekemeyer,M. Beckers,T. Gorniak,M. Grunze,T. Saldit和A. Rosenhahn.水窗中的重叠关联成像术相干X射线衍射成像.光学快报,19,1037(2011),http://dx.doi.org/10.1364/OE.19.001037
C. Homann,T. Hohage,J. Hagemann,A.-L. Robisch和T. Salditt.近场成像中的虚光束校正的正确性.物理评论,A 91,013821(2015),http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevA.91.013821
Klaus Giewekemeyer,Hugh T. Philipp,Robin N. Wilke,Andrew Aquila,Markus Osterhoff,Mark W. Tate,Katherine S. Shanks,Alexey V. Zozulya,Tim Salditt,Sol M. Grunerb和Adrian P. Mancuso.高动态范围相干衍射成像:利用混合模式像素阵列检测器的重叠关联成像术. 同步加速器辐射杂志,21,1167(2014),http://dx.doi.org/10.1107/S1600577514013411
Max Rose,Petr Skopintsev,Dmitry Dzhigaev,Oleg Gorobtsov,Tobias Senkbeil,Andreas von Gundlach,Thomas Gorniak,Anatoly Shabalin,Jens Viefhaus,Axel Rosenhahne和Ivan Vartanyants.利用相干X射线的水窗重叠关联成像术成像.同步加速器辐射杂志,22,819 (2015),http://dx.doi.org/10.1107/S1600577515005524