这一次我们带来了激光驱动高亮EUV光源！
我们有幸在此宣布，经过双方密切的交流与探讨，众星已与荷兰 ISTEQ 落实并达成了合作协议。
ISTEQ 将对众星联恒提供全面、深度的技术培训和支持，以便更好地服务于中国客户。我们将继续为中国广大科研用户及工业用户带来更多创新技术及前沿资讯！
ISTEQ
荷兰 ISTEQ 坐落于埃因霍温的高科技园区，在开发和制造各种类型的尖端产品方面拥有广泛的专业技术与丰富的经验。
ISTEQ 致力于为各种工业应用尤其是半导体、材料分析和光谱学应用开发广泛的现成解决方案，公司产品包括：激光驱动高亮EUV光源 TEUS、激光等离子体白光光源、用于 X-Ray/EUV/VUV 波段的定制化光谱仪及等离子体诊断设备等。
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激光驱动高亮 EUV 光源 TEUS 系列
来自荷兰 ISTEQ 的 TEUS，LPP EUV 光源基于快速旋转液态金属靶，这种新型 LPP 光源结合了传统的碎片抑制技术，是清洁极紫外光源的绝佳解决方案。
型号 | EUV收集角（sr） | 激光平均功率（W） | 脉宽（ns） | 重频（kHz） | 等离子体尺寸（μm） | 亮度（W/mm2sr） | EUV功率（mW） |
TEUS-S100 | 0.05 | 100 | 1.5 | 25 | 60 | 110 | 5 |
TEUS-S200 | 200 | 50 | 220 | 10 | |||
TEUS-S400 | 400 | 100 | 450 | 20 |
特征优势
高速旋转液态靶，提供了：
— 避免液滴类碎片污染 — 激光-靶材作用面不受干扰，输出参数（亮度/通量/空间位置）高效稳定 — 无需同步的连续靶材 多种碎屑抑制技术共同作用，提高收集器镜片预期寿命
连续工作时间长，维护间隔长耗时短，自动化程度高的交钥匙工程
典型应用
掩膜及表面检测
图形化掩膜检测
掩膜空间像检测
材料科学
晶圆检测
极紫外扫描光刻工艺链中的极紫外光学器件检测
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激光等离子体白光光源 XWS 系列
ISTEQ 的等离子体白光光源产品可应用于各种应用，包括光谱学，高分辨率显微镜，薄膜测量，表面测量等。
多种类型可选
基础款
XWS-65
高亮款
XWS-X
可调谐
Hyperchromator
高功率
XWS-R
紧凑型
XWS-30
双光束
XWS-Dual port
主要优点
连续激光脉冲放电
宽光谱范围: 190 – 2500 nm
高光谱亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm)
高时空稳定性: STD<0.15%
高使用寿命 :10000 小时
结构紧凑，设计简洁
通过软件扩展控制和监控参数，Windows界面
应用领域
吸收和荧光光谱学
微电子学中的诊断系统-污染和缺陷控制
表面测量，椭偏测量和散射测量
显微镜，包括共聚焦和荧光
光学组件检测
色谱检测器，微流体，晶圆实验室，液滴光谱仪，细胞荧光计等
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X-Ray/EUV/VUV光谱仪
LSP-X 射线校准光谱仪
▪ 射谱范围：0.3-1.6nm
▪ 光谱分辨率（λ/δλ）：100-400
▪ 探测器：多种 CCD 可选
XUV- VUV光谱仪AGS
▪ 可单次测量极宽的光谱范围
▪ 掠入射振幅光栅提供高的灵敏度
▪ 光谱分辨率（λ/δλ）：50
▪ 探测器：高量子效率 CCD
HD-1射线光谱仪
▪ 射谱范围：0.04-1.6nm
▪ 光谱分辨率（λ/δλ）：100
▪ 探测器：多种 CCD 可选
VUV-QFF 光谱仪
▪ 射谱范围：5-150nm
▪ 光谱分辨率（λ/δλ）：三光栅配置，分辨率高达500
▪ 探测器：CCD/MCP