X射线光栅及GA微结构
公司介绍：德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术，Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域，Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片，其高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近
- 产地： 德国
- 型号： Grating
- 品牌： Microworks
公司介绍：
德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术，Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域，Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片，其高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近红外滤波器（选频滤波器）、微弹簧，RF等。
产品介绍：
X射线光栅的制作流程
吸收光栅
（a）准备光栅胶层
（b）掩膜光刻胶层在X射线下曝光
（c）形成精细的光刻胶结构
（d）电镀金形成X射线光栅结构
产品特点：
高纵横比结构
极小周期
大面积X射线
标准结构面积
4英寸基板： 70~90mm的直径
6英寸基板：高达110mm(在某些情况
有限制）
更大尺寸选项
拼接多个光栅面板
在单个制作工艺上扩大结构面积（研发）
弯曲光栅
椎束照射高纵横比光栅，为了避免影像影响，可采用弯曲光栅，可使用特殊的夹具来运输
主要应用：
用于Talbot干涉仪的X射线光栅
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 | 微焦源Talbot干涉成像仪 光源：微焦X射线管 E=25keV 加速电压：40KV 电流：120 μA G1：周期4.37 μm(Ni) G2： 周期2.4μm(Au） |
 | 在SR装置BL-14C线站的Talbot干涉实验 E=17.8 keV Al 滤片 2.0 mm G1：周期 2.4 μm (Ni） G2：周期 2.4 μm (Au） |
德国 Microworks X射线光栅、微结构-Flyer.pdf