XUV高反射率镜

XUV高反射率镜

公司介绍:NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在全球范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量独特的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广

  • 产地: 日本
  • 型号:
  • 品牌: NTT-AT

公司介绍:

NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在全球范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量独特的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上最大的帮助。

产品介绍:

北京众星联恒科技有限公司

No

Design name

AOI

pol.

peak energy

reflectivit

bandwidth (FWHM)

1

HR-98-3.4

5 deg

s

98 eV

12.7 nm

67.7%

3.4 eV

(0.4 nm)

2

HR-95-3.8

5 deg

s

95 eV

13.1 nm

67.7%

3.8 eV

(0.5 nm)

3

HR-90-3.8

5 deg

s

90 eV

13.8 nm

68.0%

3.8 eV

(0.6 nm)

4

HR-85-4.0

5 deg

s

85 eV

14.6 nm

66.8%

4.0 eV

(0.7 nm)

5

HR-80-4.0

5 deg

s

80 eV

15.5 nm

63.3%

4.0 eV

(0.8 nm)

6

HR-75-4.6

5 deg

s

75 eV

16.5 nm

54.5%

4.6 eV

(1.0 nm)

7

HR-70-5.0

5 deg

s

70 eV

17.7 nm

47.5%

5 eV

(1.2 nm)

8

HR-70-2.6

5 deg

s

70 eV

17.7 nm

52.1%

2.6 eV

(0.7 nm)

9

HR-65-2.6

5 deg

s

65 eV

19.1 nm

48.5%

2.6 eV

(0.8 nm)

10

HR-60-2.8

5 deg

s

60 eV

20.7 nm

43.7%

2.8 eV

(1.0 nm)

11

HR-55-3.6

5 deg

s

55 eV

22.5 nm

37.3%

3.6 eV

(1.5 nm)

12

HR-50-4.2

5 deg

s

50 eV

24.8 nm

30.9%

4.2 eV

(2.1 nm)

13

HR-48-2.0

5 deg

s

48 eV

25.8 nm

50.6%

2.0 eV

(1.1 nm)

14

HR-45-2.4

5 deg

s

45 eV

27.6 nm

48.4%

2.4 eV

(1.4 nm)

15

HR-40-2.6

5 deg

s

40 eV

31.0 nm

44.8%

2.6 eV

(2.0 nm)

16

HR-35-2.6

5 deg

s

35 eV

35.4 nm

43.1%

2.6 eV

(2.6 nm)

17

HR-30-3.0

5 deg

s

30 eV

41.3 nm

41.2%

3.0 eV

(4.1 nm)

18

HR45-90-6.0

45 deg

s

90 eV

13.1 nm

66.1%

6.0 eV

(0.9 nm)

19

HR45-80-7.4

45 deg

s

80 eV

15.5 nm

60.0%

7.4 eV

(1.4 nm)

20

HR45-70-36.0

45 deg

s

70 eV

17.7 nm

49.0%

3.6 eV

(0.9 nm)

21

HR45-60-5.4

45 deg

s

60 eV

20.7 nm

40.8%

5.4 eV

(1.8 nm)

22

HR45-50-10.0

45 deg

s

50 eV

24.8 nm

30.0%

10.0 eV

(5.1 nm)

23

HR45-40-5.0

45 deg

s

40 eV

31.0 nm

44.4%

5.0 eV

(3.8 nm)

24

HR45-30-7.0

45 deg

s

30 eV

41.3 nm

42.5%

7.0 eV

(9.3 nm)


  • 天文学

  • XUV光电子光谱

  • XUV显微

  • EUV光刻

  • 等离子体物理

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北京众星联恒科技有限公司NTT-AT_XUV高反射率镜 datasheet 2020.7.16.pdf


 Multilayer Coating for Extreme Ultraviolet Experiments - white paper 20201202

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